產(chǎn)品名稱 | 適合工藝 | 控制參數(shù) | 特點(diǎn) |
ULTRAPWB? UNIG Pd-1352 | 活化 | Pd-1352:5% 鹽酸(試劑純):5% 溫度:20-30℃ 時(shí)間:2-5min | 1:采用PdCl2體系 2:被用來在化學(xué)鍍鎳之前活化銅表面。如果前處理良好,多數(shù)銅合金能被ULTRAPWB? Pd-1352活化,特別適用于印制線路板上銅電路。 |
ULTRAPWB? UNIG Ni-1865 | 化學(xué)鎳 | 鎳金屬(Ni):5.3-6.0 g/L Ni-1865 M:20% 溫度:82-92℃ pH:4.6-5.0 沉積速率:15-23μm/hr 時(shí)間:10-25年min | 1: Ni-1865 是一種穩(wěn)定性好、沉積速度快、光亮度高的化學(xué)鍍鎳工藝。該工藝用單一組分開缸,能自動調(diào)整溶液的pH值,生產(chǎn)成本低。 2:Ni-1865工藝可以在鋁合金、不銹鋼、碳鋼、合金鋼、銅合金、非導(dǎo)體以及在印制線路板上沉積出均勻的鎳磷合金,其中的含磷量大于60%,屬中磷化學(xué)鍍鎳工藝。 3:高溫穩(wěn)定性好、鍍液壽命長。 4:具良好的活化反應(yīng)能力,不會產(chǎn)生任何短路現(xiàn)象,特別適于印制線路板上的化學(xué)鍍鎳。 4:沉積速率快且穩(wěn)定,達(dá)到15~23μm/hr。 5:鎳磷合金硬度高、抗磨性能好。 |
ULTRAPWB? UIS Au-1 | 沉薄金 | Au(金):1-4 g/L Au -1開缸劑M:60% 溫度:75-90℃ pH:5.5-6.5 時(shí)間:10-30min | 1:在鎳磷復(fù)合鍍層上沉積出24K的薄金鍍層。所得鍍層結(jié)晶細(xì)致,表面光滑 2:鍍層純度高達(dá)99%; 3:鍍層密度高達(dá)19.2g/cm3; 4:鍍層厚度可達(dá)0.1μm; 5:鍍液可通過補(bǔ)加來維護(hù),成本低。 |
ULTRAPWB? UIS Au-2 | 沉厚金 | Au(金):3-6 g/L Au -2開缸劑M:60% 溫度:80-95℃ pH:4.0-5.0 時(shí)間:10-30min | 1:鍍層純度高達(dá)99.9%; 2:鍍層密度高達(dá)19.2g/cm3; 3:可以獲得傳統(tǒng)工藝難于達(dá)到的0.3~0.5μm穩(wěn)定鍍層。 |