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名  稱

開缸量(mL/L)

  Ni-601
耐高溫鎳電鍍工藝

低應(yīng)力耐高溫鎳電鍍工藝，專為防止純錫鍍層IR-Reflow后的變色而設(shè)計。是氨基磺酸型半光亮鍍鎳工藝，可焊性與延展性能好。

陽極活化劑 AA

50~100

  5~35

  50~60

添加劑 Add.

10~30

補充劑 R

5~15

潤濕劑 W.A.

0.5~2.0

Ni -602
低應(yīng)力鎳電鍍工藝

氨基磺酸型半光亮低應(yīng)力鎳電鍍工藝，采用非氯陽極活化劑，廣泛應(yīng)用于電子元器件制造領(lǐng)域。

陽極活化劑 AA

48~85

  1.6~8.6

  51~57

補充劑 R

15~30

潤濕劑 W.A.

1~5

  Ni-603
耐高溫鎳電鍍工藝

低應(yīng)力耐高溫鎳電鍍工藝，專為防止純錫鍍層IR-Reflow后的變色而設(shè)計。是氨基磺酸型半光亮鍍鎳工藝，可焊性與延展性能好。

陽極活化劑 AA

50~100

  5~35

  50~60

添加劑 Add.

20~40

補充劑 R

15~25

潤濕劑 W.A.

0.5~2.0

  Ni-604
滾鍍光亮鎳工藝

鍍層呈白色且光亮如鏡。整平能力強，走位性能好，延展性極佳，雜質(zhì)容忍度高。本工藝極適宜滾鍍操作，控制和維護容易，經(jīng)濟實惠，成本效益明顯。

添加劑 ULS-1

0.2~0.6

  0.5~1.0

  50~52

載體 UX-5

5~9

潤濕劑 W-662

1.0~2.0

載體 UK4

15~22

載體 UH

4~10

Ni-605
珍珠鎳電鍍工藝

鎳鍍層細密性佳，均勻且無光澤，耐觸摸，耐刻劃，極具沙面裝飾效果。適用于掛鍍。操控容易。

添加劑 UK5

0.2~0.4

  3~8

  50~55

載體 UK4

15~22

載體 UH

4~10

Ni-606
珍珠鎳電鍍工藝

鎳鍍層細密性佳，均勻且無光澤，耐觸摸，耐刻劃，極具沙面裝飾效果。適用于掛鍍。操控容易。

添加劑 UK6

0.3~0.5

  3~8

  50~55

載體 UK4

15~25

載體 UH

4~10

  Ni-607
半光亮鎳電鍍工藝

鍍層為不含硫的拄狀結(jié)構(gòu)，應(yīng)力非常低，整平性和延展性都很好。特別適合作為多層鎳電鍍中的半光亮鎳鍍層。

開缸劑 Mu

9~12

  3~9

  53~63

添加劑 B

0.1~0.25

添加劑 TL

0.3~1.0

潤濕劑 W.-662

2.0~5.0

Ni-608
鎳封電鍍工藝

獨特的乳狀液體，添加到鍍鎳溶液中，可使后續(xù)鉻鍍層產(chǎn)生微孔。

鎳封劑 Por-Ni

0.5~2.0 %V/V

--

---

分散劑

0.05~0.1%V/V

  Ni-648
鎳封電鍍工藝

將細小的非金屬微粒懸浮在鍍鎳溶液中，使其與鎳共沉積，能在后續(xù)的鉻鍍層上產(chǎn)生大量的微孔，可極大地提高多層鎳鍍層的電化學(xué)抗蝕性能。

添加劑UHL-1

0.1~0.2

  2.0~6.0

  50~60

載體 UX-5

10.~4.0

添加劑 UP

0.08~0.12

鎳封劑

0.6~1.0 (g/L)

潤濕劑 W-662

0.5~1.5

Ni-609
超整平光亮鎳工藝

白色鍍層光亮如鏡。整平能力、走位性能、延展性都極佳。適宜掛鍍操作，操控維護容易。

添加劑UHL-1

0.5~1.1

  2.0~8.0

  50~65

載體 UX-5

5~9

潤濕劑 W-662

1.5~2.5

  Ni-610
光亮鎳電鍍工藝

鎳鍍層光亮性極高，其整平性、柔軟性、抗機械變形性、易套鉻性等都尤為突出。功能齊全，管理簡便。適于鍍高級五金件。

光亮劑 Bri.

1.5~2.5

  2.2~11.0

  57~68

整平劑 Lev.

7.5~10

柔軟劑 Ni-663

7.5~10

潤濕劑 W-662

1.0~2.0

Ni-613
光亮鎳電鍍工藝

鍍層外觀漂亮，光亮度高。起光速度極快，可節(jié)約電鍍成本。光亮劑品種單一，維護容易。

開缸劑 Mu

25~35

  2~10

  5~70

補充劑 R

2~4

潤濕劑 W-662

0~5

  Ni-616
光亮鎳電鍍工藝

高光亮性鎳鍍層，延展性好、整平性佳、套鉻容易。特別適合在磨光鋼上的多層鎳電鍍。

開缸劑 M

0.6~1.5 %V/V

  2.2~10.8

  57~68

光亮劑 Bri.

0.1~0.4 %V/V

柔軟劑 Ni-663

1.0~2.5 %V/V

潤濕劑 W-662

0.1~0.5 %V/V

  Ni-UG6
高光亮鎳電鍍工藝

鎳鍍層光亮度極高，出光速度快，延展性好。該工藝具有良好的整平能力和深鍍能力，適于加工形狀的工件。掛/滾皆宜。

光亮劑Ni-UG6

0.5

  2~8

  50~65

載體 UX-5

7

載體 UH

2~4

潤濕劑 W-662

1.0~2.0

  Ni-US8
超級光亮鍍鎳工藝

出光速度快，鎳鍍層超級光亮，具有良好的整平能力和深鍍能力，完全能滿足高平質(zhì)鎳鍍層的應(yīng)用要求。適用于掛鍍和滾鍍生產(chǎn)線。

光亮劑 Ni-UG6

0.5

  2~8

  50~65

載體 UX-5

7

載體 US8

補充用

載體 UH

2~4

潤濕劑 W-662

0.7

EN-642
高磷化學(xué)鎳工藝

高速、高磷(含磷10.5~12%)、半光亮化學(xué)鍍鎳工藝。應(yīng)力低、無磁性、耐腐蝕、耐磨、焊接性好。

EN-642 A

60

EN-642 B

180

EN-642 C

補充用

EN-625
高磷化學(xué)鎳工藝

高磷(含磷10.5~12%)化學(xué)鍍鎳工藝?？刮g能力優(yōu)秀、具壓應(yīng)力、無磁性、焊接性好、溶液壽命長。

EN-625 A

60

EN-625 B

180

EN-625 C

補充用