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RoHS指令的環(huán)保型無鉛純錫電鍍工藝、無鉛有機(jī)保焊膜工藝(OSP)、化學(xué)沉銀工藝、無氰鍍鋅工藝、塑膠電鍍工藝(POP)、無氰鍍銀工藝、無氰堿性鍍銅工藝、以及無氰酸性青銅電鍍工藝等
產(chǎn)品系列
Product series
ULTRASOLDER ? 鍍錫系列
產(chǎn) 品 名 稱功用 / 特點(diǎn)添 加 劑 開 缸 量電流密度(A/dm2)溫 度
(℃)
名  稱開缸量(mL/L)
  Sn-701H
高速光亮純錫工藝		先進(jìn)的純錫電鍍工藝，鍍速高，操作溫度范圍寬，鍍液穩(wěn)定。鍍層均勻、光亮，不含有機(jī)物，具有優(yōu)秀的可焊性能。該工藝廣泛應(yīng)用于電子電鍍工業(yè)領(lǐng)域。Tin-300133~183  5.5~32  14~35
Sn-700150~225
開缸劑 Mu35~65
補(bǔ)充劑 R補(bǔ)充用
抗氧化劑 AO8~12
  Sn-701L
光亮純錫電鍍工藝		先進(jìn)獨(dú)特的純錫電鍍工藝，操作溫度范圍寬，鍍層均勻、光亮，不含有機(jī)物，具有優(yōu)秀的可焊性能。適用于掛鍍和滾鍍。該工藝廣泛應(yīng)用于電子電鍍工業(yè)領(lǐng)域。Tin-30066(掛)  46(滾)  0.5~3.5  14~35
Sn-700125~175
開缸劑 Mu80~100
補(bǔ)充劑 R補(bǔ)充用
抗氧化劑 AO1~5
Sn-702
高速啞純錫工藝		甲基磺酸型純錫電鍍工藝，不含氟硼酸鹽，鍍速高。鍍層均勻、無光澤、可焊性好。Tin-300200~266  5.5~32  20~50
Sn-700120~180
添加劑 Add.30~50
Sn-703
啞純錫電鍍工藝		啞純錫鍍層均勻、無光澤、可焊性好。操作溫度范圍寬，適用于掛鍍和滾鍍。Tin-30066(掛)  46(滾)  0.5~5.0  20~45
Sn-70080~150
添加劑 Add.20~80
  Sn-704
光亮錫/鉛電鍍工藝		甲基磺酸型錫/鉛電鍍工藝，其中錫/鉛比例可為60/40、90/10、和98/2。不含氟硼酸鹽，無甲醛。鍍層光亮、均勻。適用于掛鍍和滾鍍作業(yè)。Tin-300詳見TDS  1.0~3.0(掛)
0.5~1.0(滾)		  18~25
Lead-450詳見TDS
Sn-700110
光亮劑 Bri.60
抗氧化劑 AO1~5
Sn-705
硫酸鹽光亮鍍錫工藝		硫酸鹽光亮鍍錫工藝，鍍層無鉛，可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的錫/鉛電鍍工藝。適用于掛鍍、滾鍍、高速鍍。Sn-705 A2~4 % V/V0.5~4.0(常規(guī))
5~8  (高速鍍)		  8~15
Sn-705 B0.5 % V/V(常規(guī)鍍)
Sn-705 HS0.63 %V/V(高速鍍)
Sn-706
無氟硼酸啞純錫工藝		甲基磺酸型純錫電鍍工藝，不含氟硼酸鹽和鉛。啞光或半光亮的鍍層均勻、可焊性好。適用于帶材、線材的連續(xù)電鍍作業(yè)。Tin-300233~300  10~100  40~50
Sn-70080~120
開缸劑 Mu20~80
補(bǔ)充劑 R補(bǔ)充用
  Sn-707 SMD
片式元件純錫電鍍		有機(jī)酸型高pH值純錫電鍍工藝，
專為片式陶瓷電子元器件的電鍍而設(shè)計(jì)。分散能力、深鍍能力、可焊性良好，廣泛應(yīng)用于電子電鍍工業(yè)領(lǐng)域。   		Tin-30030~50  0.2~1.0  20~40
Sn-700調(diào)整pH值
導(dǎo)電液150~250
開缸鹽60~100 g/L
添加劑25~80   
Sn-748
硫酸亞錫電鍍工藝		硫酸亞錫電鍍工藝?？珊感浴⒎稚⑿院?，適用于高厚徑比穿孔鍍。添加劑 Add.5~100.5~4.0 (掛)
0.5~3.0 (滾)		16~27
SNUT
鍍錫中和劑		用于片式元器件鍍純錫后的中和處理，清洗鍍層，防止氧化。SNUT25~40 g/L0.005~0.2室溫


華傲創(chuàng)產(chǎn)品系列
華傲創(chuàng)PWB產(chǎn)品系列